針對9月6日荷蘭宣布將擴(kuò)大光刻機(jī)的管制范圍一事,商務(wù)部在近日發(fā)布會上答問時確實表示了中方的立場和態(tài)度。
中方立場與態(tài)度
注意到相關(guān)情況:
商務(wù)部明確指出,中方已經(jīng)注意到了荷蘭擴(kuò)大光刻機(jī)管制范圍的相關(guān)情況。
表達(dá)不滿:
中方對荷蘭在2023年半導(dǎo)體出口管制措施的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步擴(kuò)大對光刻機(jī)的管制范圍表示不滿。這一立場清晰地表明了中國政府對于此類貿(mào)易限制措施的不滿態(tài)度。
中荷溝通磋商情況
多層次、多頻次溝通:
商務(wù)部指出,近來中荷雙方就半導(dǎo)體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。這表明兩國政府之間在努力通過對話解決分歧和爭端。
中方對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定的關(guān)注
反對濫用出口管制:
中方強(qiáng)調(diào),美國為維護(hù)自身全球霸權(quán),不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴(yán)半導(dǎo)體及設(shè)備出口管制措施,嚴(yán)重威脅全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定,嚴(yán)重?fù)p害相關(guān)國家和企業(yè)正當(dāng)權(quán)益。中方對此堅決反對。
維護(hù)國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則:
中方呼吁荷方應(yīng)從維護(hù)國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則及中荷經(jīng)貿(mào)合作大局出發(fā),尊重市場原則和契約精神,避免有關(guān)措施阻礙兩國半導(dǎo)體行業(yè)正常合作和發(fā)展。
維護(hù)共同利益:
中方希望荷方能夠不濫用出口管制措施,切實維護(hù)中荷企業(yè)和雙方共同利益,以及全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈的穩(wěn)定。
對荷蘭政府決策的影響評估
對荷蘭企業(yè)的經(jīng)濟(jì)利益影響:
荷蘭光刻機(jī)龍頭ASML(阿斯麥)等企業(yè)的經(jīng)濟(jì)利益可能受到此次出口管制措施的影響。荷蘭政府在決定進(jìn)一步收緊ASML設(shè)備對華出口規(guī)則時,需要權(quán)衡該公司的經(jīng)濟(jì)利益與其他風(fēng)險。
對全球半導(dǎo)體市場的影響:
荷蘭擴(kuò)大光刻機(jī)管制范圍可能會加劇全球半導(dǎo)體市場的緊張局勢,對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈的穩(wěn)定產(chǎn)生不利影響。
商務(wù)部在回應(yīng)荷蘭擴(kuò)大光刻機(jī)管制范圍一事時,明確表達(dá)了中方的立場和態(tài)度,即對此表示不滿,并呼吁荷方尊重市場原則和契約精神,避免阻礙兩國半導(dǎo)體行業(yè)正常合作和發(fā)展。同時,中方也強(qiáng)調(diào)了對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定的關(guān)注和維護(hù)。
據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》分析
光刻機(jī)行業(yè)研究發(fā)展現(xiàn)狀及未來市場經(jīng)濟(jì)發(fā)展趨勢
光刻機(jī)行業(yè)作為半導(dǎo)體制造鏈條中的核心環(huán)節(jié),其研究發(fā)展現(xiàn)狀與未來市場經(jīng)濟(jì)發(fā)展趨勢備受關(guān)注。
一、光刻機(jī)行業(yè)研究發(fā)展現(xiàn)狀
市場規(guī)模持續(xù)增長
全球市場:據(jù)市場預(yù)測,2024年全球光刻機(jī)市場規(guī)模有望達(dá)到295.7億美元,顯示出半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展的強(qiáng)勁動力。光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備,其市場規(guī)模穩(wěn)步增長。
中國市場:在中國市場,光刻機(jī)行業(yè)也呈現(xiàn)出穩(wěn)步增長的趨勢。據(jù)統(tǒng)計,2023年我國光刻機(jī)產(chǎn)量為124臺,需求量為727臺,市場規(guī)模已突破160.87億元。隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,對光刻機(jī)的需求將持續(xù)增加,市場規(guī)模有望進(jìn)一步擴(kuò)大。
技術(shù)不斷升級
光刻機(jī)技術(shù)持續(xù)升級,以滿足半導(dǎo)體制造工藝不斷進(jìn)步的需求。ASML等領(lǐng)先企業(yè)不斷推出更高精度、更高效率的光刻設(shè)備,以滿足市場對更高質(zhì)量芯片的需求。
國內(nèi)企業(yè)也在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了重要突破,如上海微電子自主研發(fā)的600系列光刻機(jī)已實現(xiàn)90nm工藝的量產(chǎn),并努力突破技術(shù)瓶頸以實現(xiàn)更高工藝節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)。
市場競爭格局
全球光刻機(jī)市場呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,由國外企業(yè)主導(dǎo)。荷蘭ASML、日本Nikon和Canon是全球光刻機(jī)市場的主要競爭者。其中,ASML在高端光刻機(jī)市場占據(jù)絕對優(yōu)勢,特別是在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域,ASML是獨(dú)家供應(yīng)商。
在中國市場,上海微電子是目前中國光刻機(jī)行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè),出貨量已占國內(nèi)市場份額超過80%。此外,還有北京華卓精科、北京科益虹源等國內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)也在積極研發(fā)和生產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備。然而,整體來看,國內(nèi)光刻機(jī)行業(yè)仍處于起步階段,與國際先進(jìn)水平相比仍有一定差距。
二、未來市場經(jīng)濟(jì)發(fā)展趨勢
持續(xù)增長
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展,光刻機(jī)市場將繼續(xù)保持增長態(tài)勢。特別是在新能源汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的推動下,對芯片的需求不斷增加,進(jìn)而推動光刻機(jī)市場的增長。
技術(shù)升級
為了滿足更高精度、更高效率的芯片制造需求,光刻機(jī)技術(shù)將持續(xù)升級。未來,更高精度的EUV光刻機(jī)將成為市場的主流產(chǎn)品。國內(nèi)企業(yè)也將加大研發(fā)投入,努力突破技術(shù)瓶頸,實現(xiàn)更高工藝節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)。
國產(chǎn)替代
隨著國內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)的不斷突破和成熟,國產(chǎn)光刻機(jī)有望在市場上占據(jù)更大的份額。政府和企業(yè)將加大對國產(chǎn)光刻機(jī)的支持力度,推動國產(chǎn)替代進(jìn)程。這將有助于提升國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控能力,降低對外部供應(yīng)鏈的依賴。
國際合作
在全球化的背景下,光刻機(jī)行業(yè)的國際合作將更加緊密。國內(nèi)企業(yè)將通過引進(jìn)先進(jìn)技術(shù)和管理經(jīng)驗,提升自身競爭力;同時,也將積極參與國際競爭與合作,共同推動光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展。這將有助于促進(jìn)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的協(xié)同發(fā)展,實現(xiàn)互利共贏。
光刻機(jī)行業(yè)具有廣闊的發(fā)展前景和巨大的市場潛力。然而,企業(yè)也需要密切關(guān)注市場動態(tài)和技術(shù)發(fā)展趨勢,不斷調(diào)整自身戰(zhàn)略以適應(yīng)市場變化。同時,加強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新和品牌建設(shè)也是提升競爭力的關(guān)鍵所在。
欲獲悉更多關(guān)于光刻機(jī)行業(yè)重點(diǎn)數(shù)據(jù)及未來發(fā)展前景與方向規(guī)劃詳情,可點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》。