光刻機行業(yè)市場規(guī)模 光刻機行業(yè)投資前景分析2023

• 吳澳燕 2023年8月3日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 403 19
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光刻機作為半導體設備三大件之一，是人類文明智慧的結(jié)晶，被譽為“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”。公開資料顯示，光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設備，技術(shù)含量、價值含量極高。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩模版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上，經(jīng)過十余代的

光刻機作為半導體設備三大件之一，是人類文明智慧的結(jié)晶，被譽為“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”。公開資料顯示，光刻機是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設備，技術(shù)含量、價值含量極高。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩模版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上，經(jīng)過十余代的發(fā)展迭代，目前最先進光刻機單次曝光可以做到低于5nm的分辨率。

按照用途，光刻機可分為制造芯片用光刻機、封裝用光刻機、顯示和MEMS(微機電系統(tǒng))等領(lǐng)域用光刻機三大類。業(yè)界通常把集成電路/芯片的制造稱為前道工藝，封裝稱為后道工藝，所以制造芯片用光刻機也被稱為前道光刻機，封裝用光刻機則被稱為后道光刻機。

光刻機主要作用是通過包含器件結(jié)構(gòu)信息的圖型化掩膜版及光刻膠，在半導體材料表面形成一定形狀的器件結(jié)構(gòu)，前道光刻機和后道光刻機雖然都是光刻機，但工藝、用途不一樣，前者用于器件成型，后者做金屬電極接觸。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告》顯示：

光刻機產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設備及配套材料、中游光刻機系統(tǒng)集成和生產(chǎn)及下游光刻機應用三大環(huán)節(jié)，技術(shù)極為復雜，涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術(shù)，部分機型所需的零部件更是多達數(shù)十萬件，因此光刻機的生產(chǎn)通常涉及上千家供應商。

其中，光刻機上游國內(nèi)代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤微、精測電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學、美?？萍嫉取?/p>

光刻機行業(yè)市場規(guī)模

2021年全球光刻機市場規(guī)模為181億美元，全球光刻機前三大廠商的市場份額占比達90%以上，根據(jù)前三大廠商的銷售數(shù)據(jù)顯示，2015-2021年,全球光刻機銷售量總體增長，2021年達478臺。

光刻機市場集中度高，ASML、Nikon、Canon市場占有率超過90%，其中ASML由于其技術(shù)領(lǐng)先，壟斷了EUV光刻機，獨占75%的市場份額，Nikon與Canon分別占據(jù)13%和6%的市場份額。ASML的光刻機技術(shù)在全球處于絕對領(lǐng)先地位，EUV領(lǐng)域ASML市占率為100%，ArFi、ArF領(lǐng)域市占率分別高達96%、88%。

國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)起步較晚，與海外具體差距明顯。1977年，清華大學精密儀器系、中科院光電所、中國電子科技集團公司第四十五研究所(簡稱中電科45所)等先后投入研制光刻機。我國也時隔近十年，研制出了具有一定代表意義的光刻機——接觸式光刻機GK-3型半自動光刻機。

光刻機行業(yè)投資前景分析2023

半導體是光刻機的主要應用領(lǐng)域之一，中國政府出臺一系列政策支持半導體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國內(nèi)半導體制造業(yè)的發(fā)展，進而推動了光刻機市場規(guī)模的上漲。

“十三五”計劃推動了我國云計算、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、智能電網(wǎng)、汽車電子、移動智能終端、網(wǎng)絡通信等應用的持續(xù)落地，帶動半導體需求持續(xù)釋放，是我國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵時期。據(jù)WSTS統(tǒng)計，2021年中國已成為全球最大和貿(mào)易最活躍的半導體市場，市場規(guī)模為1,925億美元，同比增長26.9%，占全球市場三分之一以上。

半導體產(chǎn)業(yè)具有周期性波動特征，產(chǎn)能過剩和需求不足會導致光刻機產(chǎn)量下降。而近些年中國光刻機國產(chǎn)化進程加快，盡管中國的光刻機產(chǎn)業(yè)取得了一定的發(fā)展，但與國際領(lǐng)先水平相比，仍存在一些技術(shù)限制，尤其是高端光刻機技術(shù)受制于國外供應商。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國光刻機產(chǎn)量約為95臺，需求量約為652臺。光刻機的研發(fā)、制造和維護成本較高，特別是高性能光刻機。然而，在市場競爭加劇的情況下，制造商為了降低成本和提高競爭力，不得不考慮降低價格。這導致了市場均價的下降。2022年中國光刻機均價約為2267.2萬元/臺。

據(jù)報道，上海微電子正致力于研發(fā)28納米浸沒式光刻機，預計在2023年年底向市場交付國產(chǎn)的第一臺SSA/800-10W光刻機設備。此前，國家知識產(chǎn)權(quán)局公布了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”，在極紫外線光刻機核心技術(shù)上取得突破性進展。

隨著國際形勢的不確定性日益增加，國產(chǎn)化成為了核心硬科技發(fā)展的必然趨勢。光刻機作為現(xiàn)代半導體工業(yè)的基礎(chǔ)設施，其國產(chǎn)化突破將進一步帶動整個產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展，其中上游光學元器件意義重大，市場空間廣闊。

光刻機產(chǎn)業(yè)的核心在于技術(shù)創(chuàng)新，因此，提高研發(fā)投入和技術(shù)水平是非常關(guān)鍵的。中國光刻機企業(yè)應該加強研發(fā)投入，不斷提高技術(shù)水平和創(chuàng)新能力，推動光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

光刻機研究報告以行業(yè)為研究對象，并基于行業(yè)的現(xiàn)狀，行業(yè)經(jīng)濟運行數(shù)據(jù)，行業(yè)供需現(xiàn)狀，行業(yè)競爭格局，重點企業(yè)經(jīng)營分析，行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析，市場集中度等現(xiàn)實指標，分析預測行業(yè)的發(fā)展前景和投資價值。通過最深入的數(shù)據(jù)挖掘，對行業(yè)進行嚴謹分析，從多個角度去評估企業(yè)市場地位，準確挖掘企業(yè)的成長性，已經(jīng)為眾多企業(yè)帶來了最專業(yè)的研究和最有價值的咨詢服務過程。

更多行業(yè)詳情請點擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告》。

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